等離子清洗機解決了濕法去除晶圓表面光刻膠反應不準確、清洗不徹底、易引入雜質等缺點。不需要有機溶劑，對環境也沒有污染，屬于低成本的綠色清洗方式 作為干法清洗等離子清洗機可控性強，一致性好，不僅去除光刻膠有機物還能活化和粗化晶圓表面，提高晶圓表面浸潤性 1、等離子清洗機提高粘接能力，等離子處理設備可在材料表面增添化學功能鍵實現表面活化，提高粘接性能
5、等離子清洗機提高 表面阻隔力、提高表面防腐抗氧化能力，改變光學透反射性能
等離子去膠機晶圓清潔設備-等離子清洗機用于在晶圓凸點工藝前去除污染，還能去除有機污染、去除氟和其它鹵素污染、去除金屬和金屬氧化。
半導體等離子清洗設備-去除半導體芯片晶圓表面有機物、氧化物、顆粒 半導體封裝等離子清洗機去除微粒污染 氧化層 有機物 避免虛焊 半導體微波等離子去膠機器清洗晶圓、芯片、LED、銅支架等等半導體器件，有效地去除表面的污垢和有機物，同時也能增強表面的附著力和表面能，廣泛應用于半導體、光電、微電子等領域。 等離子清洗機在半導體、電子材料干式清洗中的應用如硅膠片的光刻膠剝離、除去有機膜、界面活性化、微細研磨、除去碳化膜等領域。 等離子清洗去膠機是無任何環境污染的新型清洗方式，清洗后無廢液，特點是不分處理對象的基材類型均可處理，如金屬、半導體、氧化物及粉體或時顆粒狀材料的等離子表面改性處理，包括：等離子清洗、活化、刻蝕、沉積、聚合、接枝、污染物去除、表面化學改性、聚合物植、表面涂覆等。等離子清洗機為所處理的材料表面帶來潔凈、提高濕潤性轉變，表面性質改變，提高結合力等處理效果。 半導體封裝等離子清洗機去除微粒污染 氧化層 有機物 避免虛焊 等離子清洗去膠機器在半導體行業的廣泛應用，可有效去除表面污染物和顆粒，有利于提高導線鍵的強度，減少芯片分層的發生，提高芯片本身的質量和使用壽命，提高包裝產品的可靠性 專為半導體封裝和組裝 (ASPA)、晶圓級封裝 (WLP) 和微機電 (MEMS) 組裝的需求而設計等離子清洗機能改善或克服許多制造挑戰，包括改善芯片附著、增加引線鍵合強度、消除倒裝芯片底部填充空隙以及減少封裝分層。 芯片貼裝 - 基板通過等離子清洗機表面活化提高芯片貼裝環氧樹脂的附著力，從而改善芯片和基板之間的粘合。更好的鍵合可改善散熱。 引線鍵合 - 在引線鍵合之前對焊盤采用等離子清洗機提高鍵合強度。 底部填充 - 底部填充工藝之前采用等離子清洗機表面處理來提高底部填充芯吸速度、增加圓角高度和均勻性、減少空洞并提高底部填充粘合力。 封裝和成型 - 等離子處理設備通過增加基材表面能來提高成型化合物的附著力，改進的粘合增加了封裝的可靠性。 MEMS - 加速度計、翻滾傳感器和氣囊展開傳感器等 MEMS 器件在制造過程中采用等離子體清洗機處理提高器件產量和長期可靠性